
退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中,例如氧化,或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉,超节能结构,采用纤维结构,节电60%。
2、---的保温性能:隧道式烘箱表面温升越小,散失的热能越少,隧道式烘箱正确选用保温材料及恰当的保温层厚度以及热桥是---保温性能的手段。
3、稳定的传动系统:隧道式烘箱驱动马达配置必须准确,---扭矩的同时需尽量降低功率。无论何种传送方式,不能出现传送带跑偏现象。
4、的电器控制:隧道式烘箱电器控制占设备总成本比例不会---,所以选用配置的元器件在---长期控制的同时也不会增加多少成本。

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