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退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。

3购买---注意:

挑选实验所需壳体尺寸挑选所需温度范畴挑选所需试品托物架总数明确试验设备安装场所尺寸、电源明确选定设备是不是能通过门、电梯、楼道等通道，成功运送到安装场所

高温烤箱购买常见问题

4、上料

如何把产品方进来。能够给烤箱层次。配备拖盘，有网盘，实体线盘，冲孔机盘。多的话能够用材架，车架。但留意一个问题。操作人员是不是方便操作。

5、放置场所

如果烤箱是放置在楼房上。要考虑到能不能进门处，进电梯。

其实，全是一些技术需要考虑的问题。烤箱沒有多少的技术水平。构造简易。非常容易被。---签定技术协议进行特性验收比较好。

隧道式烘箱规格要求：

(1)烘干炉部门形状尺寸:长6~10米，外宽0.95米，网带链条宽0.55米总高1.5米，进料部门长0.5米，风---门长y米，入料部门长0.5米,整线房梁和箱体机壳采用2.0㎜厚冷板折弯而成，整个机械机壳高温静电喷塑或漆料，机架用40×80㎜方通焊接而成，机架两边连板,配16㎜调整脚杯.

箱体的温度控制采用了gcd一23a型智能温控和plc自控系统软件，温度信号的收集用铂电阻，经温度控制器的变大与设定值开展较为获得pid控制信号，另外plc程控器输出控制信号控制固态继电器ssr通断，固态继电器再控制电加热器加温，使箱体处在提温去湿环节。