退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。
5、炉盖采用液压升降，电机控制自动行走。6、温控系统采用pid可控硅控制，精度高。箱式退火炉用途：主要用钢制工件的淬火、正火、退火等常规热处理之用的设备。特点：智能数显表pid1、电炉装载量大、生产率高，---适用于小、中型机件的热处理加热用，节能达30%，炉温均匀，智能数显表pid（如图<智能数显表pid>所示)自动控制炉温，精密高；2、电炉装御料方便，操作条件好；3、炉门与炉体的密封为自动密封，无需人工密封；4、电炉设有连锁保护装置，可防止因误操作而发生的故障及事故
二）基本原则 坚持推进与---重点相结合。系统梳理工业炉窑分布状况与排放特征，建立详细管理清单，实现---全覆盖。---工业炉窑环境问题---的重点行业以及相关产业集群，加大综合治理力度。合理把握工作推进进度和节奏，重点区域推进。 坚持结构优化与---治理相结合。加大产业结构和能源结构调整力度，加快淘汰落后产能和不达标工业炉窑，实施燃料清洁低碳化替代；深入推进涉工业炉窑企业综合整治，强化全过程管理，加强有组织和无组织排放---。通过“淘汰一批、替代一批、治理一批”，提升产业总体发展水平。
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