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退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。

  隧道炉（食品加工类）是通过热的传导、对流、辐射完成食品烘烤的隧道式机械设备。该烤炉炉体一般很长，至少6米，长至60~80米。烘烤室为一狭长的隧道，宽度一般为80cm到140cm。隧道内有一条连续运转的输送系统。食品烤制时，食品通过输送链板、钢带或网带与电热元件或直燃燃烧棒之间产生相对运动。从而完成均匀烘烤和输送的工作。这类烤炉可连续生产，生产，节省人力，烘烤品质稳定。该隧道炉主要用于工业化生产的食品企业，以大批量连续或间歇烘烤为特征。通常额定功率输入>;24kw，由专职人员操作。