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退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。

提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(---铜等）及增进美观等作用。在生产工作中，远红外线隧道炉是起到了烘干、干燥的作用。除此之外，我们还有用于食品、印刷、制药、pc板、粉体、含浸、喷涂、玻璃、陶瓷、木器建材等等一系列的产品的生产。远红外线隧道炉的工作是把这些产品或精密烘烤、烘干；或回火、预热；又或者定型、加工工艺等。

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