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退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。

低碳节能燃气热---红外线隧道炉，办理现有技术中燃气热---红外线隧道炉存在的燃料焚烧率低、焚烧温度低等疑问。该热---红外线隧道炉设有焚烧器和富氧产生器，焚烧器经历燃气管路持续送燃气装配，焚烧器经历送风管路持续富氧产生器微风机，焚烧器为涡旋式焚烧器或旋风式燃气焚烧器。涡旋式焚烧器或旋风式燃气焚烧器焚烧的排量比一般焚烧器排放量低于20倍，能够充裕焚烧。一般焚烧器排放尺度小于0.20％，涡旋式焚烧器排放尺度小于0.011％。送风体系增长富氧产生器，能够节减燃气提供量10％摆布。

在机电、化工、塑料、轻工等行业和科研单位中，常采用隧道式烘箱烘烤各种产品、试样，并将其烘干、固化、热处理及其他加热处理。

高温炉特点：

隧道式烘箱适用于测定煤中水分、烘干物品、干燥和热处理的温度和时间等。隧道式烘箱采用数显温度调节器控制温度，控温灵敏，操作简单，，数字直接显示温度，直观易懂。隧道式烘箱工作室温度可在室温至300℃之间任意恒温，可自动切断电源，保护设备及试验品。